4 inča Sapphire Wafer C-ravnina SSP/DSP 0,43 mm 0,65 mm

Kratki opis:

Safir je materijal jedinstvene kombinacije fizikalnih, kemijskih i optičkih svojstava, koji ga čine otpornim na visoke temperature, toplinske udare, eroziju vodom i pijeskom te ogrebotine.

Pošaljite nam e-poštu

Pojedinosti o proizvodu

Oznake proizvoda

Prijave

● Supstrat za rast spojeva III-V i II-VI.
● Elektronika i optoelektronika.
● IR aplikacije.
● Silicij na safirnom integriranom krugu (SOS).
● Radiofrekvencijski integrirani krug (RFIC).
U proizvodnji LED-a, safirne pločice se koriste kao supstrat za rast kristala galij nitrida (GaN), koji emitiraju svjetlost kada se primijeni električna struja.Safir je idealan supstratni materijal za rast GaN jer ima sličnu kristalnu strukturu i koeficijent toplinskog širenja kao GaN, što minimalizira nedostatke i poboljšava kvalitetu kristala.

U optici se safirne pločice koriste kao prozori i leće u okruženjima visokog tlaka i visoke temperature, kao i u sustavima infracrvenog snimanja, zbog svoje visoke prozirnosti i tvrdoće.

Specifikacija

Artikal	4-inčna C-ravnina (0001) 650 μm safirne ploče
Kristalni materijali	99,999%, visoke čistoće, monokristalni Al2O3
Razred	Temeljni, Epi-Ready
Površinska orijentacija	C-ravnina (0001)
	C-ravnina zakrivljena prema M-osi 0,2 +/- 0,1°
Promjer	100,0 mm +/- 0,1 mm
Debljina	650 μm +/- 25 μm
Primarna ravna orijentacija	A-ravnina (11-20) +/- 0,2°
Primarna ravna duljina	30,0 mm +/- 1,0 mm
Jednostrano polirano	Prednja površina	Epi-polirano, Ra < 0,2 nm (prema AFM)
(SSP)	Stražnja površina	Fino brušenje, Ra = 0,8 μm do 1,2 μm
Obostrano polirano	Prednja površina	Epi-polirano, Ra < 0,2 nm (prema AFM)
(DSP)	Stražnja površina	Epi-polirano, Ra < 0,2 nm (prema AFM)
TTV	< 20 μm
NAKLONITI SE	< 20 μm
WARP	< 20 μm
Čišćenje/pakiranje	Čišćenje čistih prostorija klase 100 i vakuumsko pakiranje,
	25 komada u jednom pakiranju kazete ili pakiranju od jednog komada.

Pakiranje i otprema

Općenito govoreći, paket nudimo kutijom od 25 komada kazeta;također možemo pakirati u jednu posudu za oblatne ispod 100 razreda prostorije za čišćenje prema zahtjevu klijenta.